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英特尔10 nm工艺引入全新晶体管技术追平7 nm

发布日期:2020-08-17 11:45:08 分类:站长新闻 阅读()来源:网络

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虽然英特尔在推进工艺制程升级的道路上进展缓慢,长期停留在14 nm节点上,被消费者批评创新乏力,但有一点英特尔做得不错,就是不在工艺制程的描述上玩数字游戏,英特尔这方面表现是强于其它芯片代工厂的。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/202008/417125.htm


最近英特尔终于带来了一些好消息,除了下一代(第11代)酷睿处理器的工艺制程全面进军10 nm节点以外,英特尔还将在10 nm工艺制程中加入全新的“SuperFin”晶体管。基于这一新技术生产的第11代酷睿处理器,相较于同样是10 nm工艺制程的部分第十代酷睿处理器,性能取得了大幅度提升,几乎可以等效于7 nm工艺制程的水平。

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这项“SuperFin”技术能够提供增强的外延源极/漏极、改进的栅极工艺和额外的栅极间距,并结合其它方面的改进共同达到增强性能的目的。英特尔首席架构师Raja Koduri表示:“这是一项行业内领先的技术,领先于其他芯片制造商的现有能力。”

据悉10 nm SuperFin技术将用在代号为“Tiger Lake”的英特尔第11代酷睿处理器上,这一代处理器将于今年的假日季上市,按照惯例应该会率先推出第11代酷睿移动处理器。


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英特尔

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